Mágneses porlasztó vákuum bevonógép

Mágneses porlasztó vákuum bevonógép

Egy magnetron porlasztó vákuumbevonórendszer nagy energiájú ionokat használ egy vékony anyagréteg szubsztrátra. A folyamat gyors és olcsó, és nagy tisztaságú bevonatot eredményez. A nagy energiájú ionok felszabadulnak a forrásanyagból, és ütköznek egy inert gázzal, például Argonnal. Ezek az ionok plazmát eredményeznek, és a forrásanyag atomjait kidobják.

A mágneses porlasztás vákuum-bevonó gépet általában az ékszerek gyártásában használják. Rotációs és helyhez kötött mintái könnyen beállíthatók, hogy megfeleljenek a bevonási követelmények széles skálájának. Ez a gép alkalmas bármilyen fém vagy nem fém szubsztrát bevonására. Használható a műanyag, a kerámia és a kristályüveg bevonására is. Legfelsőbb tulajdonságai között szerepel a jó egységesség és a gyors lerakódási sebesség.

A Magnetron porlasztó vákuumbevonórendszer hatékony és sokoldalú eszköz a nagy volumenű előállításhoz. Az igényektől és az alkalmazástól függően ez a technika vékony fóliákat hozhat létre a kívánt tulajdonságok széles skálájával. A folyamat optimalizálására különféle energiarendszerek, anyagok és gázok használhatók. A folyamat megkezdése előtt a szubsztrát be van szerelve a tartóba. A tartó ezután áthalad egy rakománykamrán, hogy megakadályozza a mozgását.

Ez a vákuumbevonórendszer egy olcsó módszer, amely magas színvonalú bevonatot eredményez, magas átadási sebességgel. Ideális a repülés és a csúcskategóriás elektronikai gyártáshoz. Használható ötvözet és kompozit fémfilmekhez is. Ez egy gazdasági és hatékony módszer sokféle anyag bevonására.

A Magnetron porlasztási vákuumbevonórendszer olyan porlasztási forrást használ, amely kihasználja az elektronszülést. A mágnesek csapdába ejtik az elektronokat a cél felületén, ami magasabb plazma sűrűséggel és magasabb lerakódási sebességet eredményez. A hagyományos porlasztási módszerekkel ellentétben ez a technika biztonságos, és nem okoz károkat a bevonat objektumának.

Fontos szempont a folyamatban használt porlasztási gáz. A felhasználandó gáz típusa a szubsztrát atomtömegétől függ. Például a könnyebb anyagok részesülnek a neon vagy a xenon használatából. Ha a kamra oxigént tartalmaz, akkor a folyamat reaktív lesz.

A porlasztási folyamat magában foglalja a célanyag reaktív gázoknak való kitettségét. Ezek a gázok reagálnak a célanyaggal, és molekuláris vegyületet hoznak létre. Az anyagot ezután vékonyréteg -bevonatként helyezik el. Például, ha egy szilícium -célt oxigénnel vagy nitrogénnel reaktív módon porlasztanak, szilícium -oxidot vagy szilícium -nitridet eredményez. Ezt a módszert gyakran használják több anyag egyszerre történő bevonására.

Mágneses porlasztó bevonógép

A multi-ARC ion- és porlasztó bevonatok széles színben letétbe helyezhetők. A színek csengését tovább javíthatjuk, ha reaktív gázokat vezetnek be a kamrába a lerakódási folyamat során. A dekoratív bevonatok széles körben alkalmazott reaktív gázai a nitrogén, oxigén, argon vagy acetilén. A dekoratív bevonatok egy bizonyos színtartományban készülnek, a bevonat fém-gáz arányától függően. Mindkét tényező megváltoztatható a lerakódási paraméterek megváltoztatásával.

A lerakódás előtt az alkatrészeket megtisztítják, hogy a felület portól vagy kémiai szennyeződésektől mentes legyen. Miután a bevonási folyamat megkezdődött, az összes releváns folyamatparamétert folyamatosan ellenőrzik és egy automatikus számítógépes vezérlő rendszer vezérli.

• Szubsztrát anyag: üveg, fém (szénacél, rozsdamentes acél, sárgaréz), kerámia, műanyag, ékszerek.

• Szerkezet típusa: Függőleges szerkezet, #304 rozsdamentes acél.

• Bevonófilm: Multifunkcionális fémfilm, kompozit film, átlátszó vezetőképes film, reflexió-növekvő film, elektromágneses árnyékoló film, dekoratív film.

• Filmszín: Multi színű, fegyverfekete, titán arany szín, rózsa arany szín, rozsdamentes acél szín, lila szín, sötét fekete, sötétkék és más szín.

• Film típusa: TIN, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, Tialn és DLC.

• Fogyasztó anyagok a termelésben: titán, króm, cirkónium, vas, ötvözet; síkcél, hengeres cél, iker cél, ellentétes célpont.