DK ív -ion bevonat

Ív ionbevonat

PVD- fizikai gőzlerakódás
A fizikai gőzlerakódás egyik formája (PVD bevonat) az ívion bevonat. A PVD bevonat története megkezdte az ARC technológiát, amelynek ívhegesztése származik.

Célok

Az elpárologtatandó fém szilárd blokkként (célpont) helyezkedik el a vákuumkamra belsejében. A ragyogó ürítés meggyullad, és a célponton fut, lábnyomot hagyva. Néhány μm átmérőjű célanyag kis foltjai elpárolognak. Az ív mozgását mágnesek vezethetik.

Plazma bevonat

Az elpárologtatott ionizált anyagot plazma bevonatként használják egy olyan terméken, amely a vákuumkamrában forog. Az ív bevonatait szerszámbevonat és alkatrész bevonatként használják.

Példák a bevonatokra

Példák az ARC bevonatára, hogy az ón, Aitin, AICRN, TISIN, TICN, CRCN és CRN bevonat

A PVD ARC folyamat vázlatos nézete.

Az ARC bevonat technológiájának jellemzése:

A magas lerakódási sebesség (1 ~ 3 μm/h) magas ionizáció, ami jó tapadást és sűrű bevonatot eredményez, mivel a célt lehűlnek, kevés hőt generálnak a szubsztráthoz, akár 100 ℃ alatti hőmérsékleten történő bevonat is elpárologhat, így a fennmaradó szilárd célt a kompozícióban változatlanul nem változhat. A katódok bármilyen helyzetbe helyezhetők (vízszintes, függőleges, fejjel lefelé), ami lehetővé teszi a rugalmas géptervezést.

Az ARC bevonat technológiájának fő hátrányai:

Korlátozott típusú célanyagok - csak fémek (nincs oxid) -, amelyeknek a nagy áramsűrűség miatt nincs túl alacsony párolgási hőmérséklete, a célanyag bizonyos mennyiségét kis folyadékcseppekként dobják ki.